Disputas: Martin Lie

Prøveforelesning

Bedømmelseskomité

Professor Emeritus Lauri Niinistö, Laboratory of Inorganic and Analytical Chemistry, Helsinki University of Technology, Finland
Professor Anders Hårsta, Department of Materials Chemistry, Uppsala University, Ångstrøm Lab, Sweden
Professor Unni Olsbye, Department of Chemistry, University of Oslo

Leder av disputas:  Professor Svein Stølen

Veileder:  Professor Helmer Fjellvåg, professor emeritus Arne Kjekshus

Sammendrag

Martin Lie har i sitt doktorgradsarbeid fremstilt tynne filmer ved bruk av teknikken ALD (atomic layer deposition). Den samme teknikken brukes blant annet i produksjonen av flere komponenter i dagens datamaskiner. Teknikkens store fordel er at filmen på en kontrollert måte blir bygget opp atomlag for atomlag til ønsket tykkelse og sammensetning.

Lie har studert hvordan forskjellige vekstbetingelser, som temperatur, underlag (substrat) og magnetfelt påvirker filmen. En modell for sammenhengen mellom prosessparametere og sammensetningen i filmen har blitt videreutviklet i forbindelse med dette. Forbindelsene brukt som modellsystemer har vært materialer som kan være interessante i forbindelse med fremstilling av sensorer og andre høyteknologiske produkter. Arbeidet kan settes inn i en større sammenheng der målet er utvidet forståelse av tynne filmer av funksjonelle oksider. I løpet av dette prosjektet har det blant annet lyktes å lage La_1-xSr_xFeO₃.

Arbeidet er utført ved Kjemisk institutt, Universitetet i Oslo under prosjektet FIN (Films, Interfaces and Nanomaterials) støttet av Norges Forskningsråd. Lie drar nå nytte av sine kunnskaper om tynne filmer som leder av utviklingsavdelingen hos Ingeniør Harald Benestad as.

Kontaktperson

For mer informasjon, kontakt Raul Boris Briceno.